Intel之前现已宣告在2021年推出7nm工艺，首发产品是数据中心运用的Ponte Vecchio加速卡。7nm之后的5nm工艺愈加重要了，由于Intel在这个节点会抛弃FinFET晶体管转向GAA晶体管。
跟着制程工艺的晋级，晶体管的制造也面临着困难，Intel最早在22nm节点上首发了FinFET工艺，其时叫做3D晶体管，便是将本来平面的晶体管变成立体的FinFET晶体管，提高了功能，下降了功耗。
FinFET晶体管随后也成为全球首要晶圆厂的挑选，一向用到现在的7nm及5nm工艺。
Intel之前现已说到5nm工艺正在研制中，但没有发布概况，最新爆料称他们的5nm工艺会抛弃FinFET晶体管，转向GAA盘绕栅极晶体管。
GAA晶体管也有多种技能道路，之前三星说到他们的GAA工艺可以提高35%的功能、下降50%的功耗和45%的芯片面积，不过这是跟他们的7nm工艺比较的，并且是初期数据。
考虑到Intel在工艺技能上的实力，他们的GAA工艺功能提高应该会更显着。
假如能在5nm节点跟进GAA工艺，Intel官方许诺的5nm工艺从头夺回领导地位就不难理解了，由于GAA工艺上他们十分早跟进的。
至于5nm工艺的面世时刻，现在还没清晰的时刻表，但Intel之前说到7nm之后工艺周期会回归以往的2年晋级的节奏，那便是说最快2023年就能见到Intel的5nm工艺。