5月21日音讯，据国外新闻媒体报导，三星电子新的根据极紫外光刻（EUV）技能的5nm芯片出产线，渐渐的开端建造，出资高达81亿美元，方案在下一年下半年投入运营。
从外媒的报导，三星是在周四宣告这一出产线已开端建造的，出产线坐落韩国京畿道平泽的三星园区，是在本月开端建造的，方案下一年悉数建成。
外媒的报导还显现，三星的这一新的5nm芯片出产线，方案出资10万亿韩元，也便是约81亿美元，建成之后很快就会投入运营，三星是方案在下一年下半年就投入运营。
选用极紫外光刻技能，芯片代工商就能顺畅出产5nm及更先进工艺的芯片，三星根据极紫外光刻技能的7nm工艺，在上一年已开端量产，三星在上一年也初次宣告他们顺畅研制出了根据极紫外光刻技能的5nm工艺。
三星已开端建造的这一条5nm EUV出产线，建成后将出产用于5G、高性能计算机及人工智能范畴的芯片。这一条出产线建成之后，三星在韩国和美国的芯片代工出产线，就将增至7条。